原標題：中國芯片再爆好消息！國產光刻機迎來新突破：開始攻關65nm技術

眾所周知，只要一說起臺積電，相信大家也都是非常的熟悉了，作為全球芯片代工領域最強的芯片巨頭，尤其是在高端芯片制造領域，一直以來都是處于壟斷的地位，但實際上臺積電之所以在芯片制造領域如此出色，很大程度上也是得到了ASML高端光刻機設備的支持，要知道在芯片制造整個流程中，光刻機光刻的過程幾乎占到了40%甚至是更高的比例，這就不難看出，一臺光刻機設備對于芯片制造多地有多么重要，但目前在光刻機設備領域中，我國自主研發的光刻機設備依舊相當的落后，目前過呢最強的光刻機技術依舊還停留在90nm芯片制造水平中，處于全球最低端的芯片制造水準。

但近日，我國光刻機研究終于傳來了好消息，國內企業正在攻關65nm工藝的光刻機設備，目前已經取得了一定的進展，這意味著我國的光刻機設備也即將進入到中端市場領域，迎來了新突破，隨著國產光刻機分辨率的提高，從90nm進入到65nm時代，也將會進一步縮小我們與ASML之間的差距；

但實際上，即便是國產光刻機能夠攻克65nm技術難題，成功量產65nm光科技設備，但要知道我們國產光刻機目前依舊還是處于嚴重落后的地步，當然針對這種現象，實際上與我們在光刻機設備研發起步時間、技術、人才等等方面，也是有著直接的關聯，例如在光刻機技術研發上起步較晚，同時還遭到了西方國家的技術封鎖，在關鍵技術人才方面的積累較少等等，綜合之下，也就直接造就了國產光刻機技術長期處于落后的態勢之中；

而起步較早的ASML在光刻機設備領域，在2004年全球芯片制造工藝都進入到了全新的瓶頸期，而作為全球知名的芯片代工企業，為了能夠進一步需求突破，所以也是聯合了ASML，制造了一臺以水為介質的光刻機設備，相對比過往以空氣為介質的光刻機設備，在分辨率方面也是有著更加優異的表現，所以ASML也憑借這種以水為介質的浸潤式光刻機設備，成為了全球最強的芯片設備制造企業，一舉打敗了當時日本尼康、佳能等知名企業，而臺積電方面自然也是得到了ASML更多的關照，后來也直接奠定了臺積電在芯片代工領域的霸主地位。

從ASML、臺積電的發展軌跡，我們也不難看出，其實在光刻機設備、芯片代工企業之間，也是存在一種相互促進的作用，光刻機設備廠商通過與芯片制造廠商的深度合作，在芯片制造工藝、技術等方面，無疑也將會有更優的解決方案，所以看到這里，大家也就不難理解，為何國產高端光刻機設備技術會長期處于落后，很大程度上也是與國內沒有先進的芯片制造企業有著很大的關聯。

寫在最后：隨和中芯國際的不斷突破，不斷地縮小與臺積電、三星之間的差距，未來或許也將會直接復制ASML、臺積電這種“成功模式”，讓國產光刻機以及芯片制造水平都得到極大的提升，讓國產芯片實現真正的崛起。對此各位小伙伴們，你們怎么看呢？歡迎在評論區中留言討論，期待你們的精彩評論！