蘇大維格:公司激光直寫光刻機(jī)具體應(yīng)用包括柔性電子、MEMS以及特定領(lǐng)域
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- 2022-03-21
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3月21日,有投資者在投資者互動(dòng)平臺(tái)提問(wèn):蘇大維格官網(wǎng)顯示,iGrapher系列設(shè)備已用于4寸~8寸MEMS制備、17寸-65寸精密電路制備的工業(yè)應(yīng)用。請(qǐng)問(wèn)貴公司的光刻設(shè)備能否用于精密電路和MEMS的大規(guī)模制備?有沒(méi)有提供給PCB或者M(jìn)EMS制造廠商?
蘇大維格表示,公司激光直寫光刻機(jī)具體應(yīng)用包括柔性電子、MEMS以及特定領(lǐng)域半導(dǎo)體比如半導(dǎo)體功率芯片等產(chǎn)品的研發(fā)與制造。公司光刻設(shè)備整機(jī)除自用及向國(guó)內(nèi)外高校及科研院所銷售外,2021年開(kāi)始向企業(yè)拓展,并成功實(shí)現(xiàn)了對(duì)半導(dǎo)體領(lǐng)域企業(yè)的銷售;在光刻機(jī)關(guān)鍵器件方面,公司向上海微電子提供了其半導(dǎo)體領(lǐng)域投影式光刻機(jī)用的定位光柵部件。
資料顯示,蘇大維格主要從事微納關(guān)鍵技術(shù)、高端智能制造設(shè)備和功能材料的創(chuàng)新應(yīng)用,是首批認(rèn)證的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)。其光刻儀器事業(yè)部研制了多種用于MEMS芯片的光刻設(shè)備MiScan200(8”~12”)、微納光學(xué)的MicroLab(4”~8”)和超表面、裸眼3D顯示、光電子器件研究的納米光刻設(shè)備NanoCrystal(8”~32”)。(Arden)
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