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集微網消息，3月21日，有投資者在投資者互動平臺提問：蘇大維格官網顯示，iGrapher系列設備已用于4寸～8寸MEMS制備、17寸-65寸精密電路制備的工業應用。請問貴公司的光刻設備能否用于精密電路和MEMS的大規模制備?有沒有提供給PCB或者MEMS制造廠商？

蘇大維格表示，公司激光直寫光刻機具體應用包括柔性電子、MEMS以及特定領域半導體比如半導體功率芯片等產品的研發與制造。公司光刻設備整機除自用及向國內外高校及科研院所銷售外，2021年開始向企業拓展，并成功實現了對半導體領域企業的銷售；在光刻機關鍵器件方面，公司向上海微電子提供了其半導體領域投影式光刻機用的定位光柵部件。

資料顯示，蘇大維格主要從事微納關鍵技術、高端智能制造設備和功能材料的創新應用，是首批認證的國家高新技術企業。其光刻儀器事業部研制了多種用于MEMS芯片的光刻設備MiScan200（8”~12”）、微納光學的MicroLab（4”~8”）和超表面、裸眼3D顯示、光電子器件研究的納米光刻設備NanoCrystal（8”~32”）。（校對/Arden）