原標題：即使沒有7nm光刻機也行？中芯國際突然宣布，中國芯迎來最大希望

導語：重大進展！中芯國際突然宣布，中國芯的希望！

大家都知道，華為高端芯片的研發能力是很強的，但在芯片生產方面不得不依靠強大的臺積電。由于不久前，美國計劃將“源于美國技術標準”的25%下降到10%，受此影響，華為基于14nm中、低端芯片并未達到要求，因此，臺積電或將對華為14nm做出措施。值得慶幸的是，目前基于華為7nm的高端芯片并未受到影響，可以照常生產代工。在此時間節點上，臺積電以庫存為由消掉了華為20%的訂單量，這不得不引起外界的懷疑。

巧合的是，中芯國際也已經從臺積電那里搶到了不少華為的14nm訂單。中芯國際作為我國芯片企業的領頭羊，是在2019年最后幾個月的時間宣布14nm工藝芯片進入量產階段這一好消息的，14nm工藝的量產對我國芯片行業的發展來說意義重大。因為，正是由于我國的“缺芯少魂”，在2018年才差點導致我國企業中興一夜之間陷入”癱瘓“，也正是因為此我國民族企業華為至今仍在美國的”實體清單“當中。

然而，中芯國際又給我們帶來了好消息，雖然中芯國際14nm工藝剛剛量產數月，但根據其財報顯示，該項業務已經為中芯國際創造5200萬以上的營收。這是國內最大的晶圓代工廠中芯國際在Q4季度中已經量產14nm工藝，貢獻了1%的營收，據說該工藝能夠滿足國內95%的芯片生產。不過中芯國際唯一的問題就是，產能相比臺積電差距還是很大，去年底也就生產了1000片晶圓左右。

除此之外，還有一個好消息，中芯國際突然宣布，雖然14nm工藝相比臺積電、三星的工藝依然存在2-3代的差距，而且滿足不了制造當前最高性能水平的處理器，所以中芯國際還在發展更新一代的N+1、N+2工藝。根據中芯國際的技術大牛梁孟松對N+1、N+2代工藝的透露，N+1工藝與14nm相比，性能提升20%，功耗降低57%，邏輯面積縮小63%，SOC面積減少55%。按照面積縮減55%的說法，這就是芯片密度提升了一倍，換言之也就是14nm的密度提升了一倍，也就是7nm工藝。

這是否意味著，即使沒有7nm光刻機也能生產于其相似的芯片？不過N+1代工藝在功耗及穩定性上跟7nm工藝非常相似，但性能不如，業界標準是提升35%，因此中芯國際的N+1工藝主要開始面向低功耗的。N+1之后還會有N+2，這兩種工藝在功耗上表現差不多，區別在于性能及成本，N+2顯然是面向高性能的，成本也會增加。從梁孟松公布的情況來看，這是中國芯片產業的重大進展，同時也是中國芯迎來的最大希望！

大家都知道，中國芯的工藝水平仍然與世界頂端水平存在著較大的差距，因此中國大力扶持中國芯片產業的發展。在芯片工藝的研發方面，中芯國際可謂是經歷了無數坎坷。僅從中芯國際花費1.5億美元，從荷蘭ASML預定了一臺7nmEUV光刻機，由于美國為了限制中國芯片的發展，持續對荷蘭施壓，至今這臺7nmEUV光刻機沒能夠到中芯國際的手上。不出意外的話，這臺光刻機應該在2019年年底就到了中芯國際的手中，而中芯國際也能早一步進入到高端芯片7nm工藝的生產和研發當中。

雖然中芯國際研發的N+1和N+2工藝能夠取代7nm工藝，但是真正的實現規模性量產還需要等到2020年底。如今14nm芯片仍然作為現代醫療、汽車、智能物聯等的主流芯片，而中芯國際14nm芯片的產能也在急速爬坡當中，預計將在今年3月達到4K，7月達到9K，12月達到15K。以目前中芯國際的發展速度來看，也會有越來越多的企業開始找到中芯國際開始合作，相信在不久的將來定能正式躍居全球一線水平。到了那個時候，美國要是再以芯片來阻止中國企業的發展，怕是已無可能。不知大家對新一代工藝N+1和N+2有有什么想說的？談談你們的看法！